無塵車(chē)間生(shēng)産對于濕度控制是對器非常重要的條件之一(yī)，無塵車(chē)間、潔淨室運作過程中飛黃(zhōng)一(yī)個常用的環境控制條件是相風體對濕度。半導體(tǐ)無塵車(chē)間、潔淨室能水中(zhōng)的典型的相對濕度的目标值大(dà農動)約控制在30至50%的範圍内，允許誤差在&p雜書lusmn;1%的狹窄的範圍内，例如光刻區或者在遠紫外(wài)線處理(謝得DUV)區甚至更小(xiǎo)而在其他地方則可以放(fàng)松到&pl謝放usmn;5%的範圍内。
工(gōng)業加濕系統帶來的相對濕度能夠使無塵車(她內chē)間的不好問題下(xià)降，比如：
1、細菌生(shēng)長；
2、工(gōng)作人員(yuán)感到室溫舒适的範圍；這快
3、出現靜電(diàn)荷；
4、金屬腐蝕；
5、水汽冷凝；
6、光刻的退化；
7、吸水性。
細菌和其他生(shēng)物(wù)污染(黴菌，病毒，真菌，螨蟲)快不在相對濕度超過60%的環境中(zhōng)可以活躍的繁殖。一(yī)些菌群在在購相對濕度超過30%時就可以增長。在相對濕度處于40%至60%市來的範圍之間時，可以使細菌的影響以及呼吸道感染降至最低。高濕度實際上減小(xi西筆ǎo)了無塵車(chē)間、潔淨室表面的靜電(diàn)荷積累，較低的濕度開山比較适合電(diàn)荷的積累并成為潛在的具些舊有破壞性的靜電(diàn)釋放(fàng)源。當相對濕度超過50可樂%時，靜電(diàn)荷開(kāi)始迅速消散，但是當山還相對濕度小(xiǎo)于30%時，它們可以在絕緣南靜體(tǐ)或者未接地的表面上持續存在很長一(yī)段時間紅老。
相對濕度在35%到40%之間可以作為一(y紅新ī)個令人滿意的折中(zhōng)，半導體(tǐ)無塵車(c舞下hē)間、潔淨室一(yī)般都使用額外(wài)的控制裝置以限制靜電(diàn黑熱)荷的積累。
到目前為止，在半導體(tǐ)無塵車(chē)間、潔淨室中(z東上hōng)最迫切需要适當控制的是光刻膠的敏感性。科吃由于光刻膠對相對濕度極為敏感的特性，它對相對濕度的控制範圍的要求是最嚴格的水準匠拿。
實際上，相對濕度和溫度對于光刻膠穩定性以及精确的尺寸控制都吧都是很關鍵的。甚至是在恒溫條件下(xià)，光刻膠的黏呢鄉性将随着相對濕度的上升而迅速下(xià)降。當然畫樂，改變黏性，就會改變由固定組分(fēn)塗層員就形成的保護膜的厚度。參考兩個城市，一(y黑作ī)個試驗證實，相對濕度的3%的變異将使保護厚度會用改變59.2A。
此外(wài)，在高的相對濕度環境下(xià)，由于水分(fēn)的西但吸收，使烘烤循環後光刻膠膨脹加重。光刻膠附着力同她得樣也可以受到較高的相對濕度的負面影響；較低的相對濕度(約3坐民0%)使光刻膠附着更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六甲基二矽氮林見烷(HMDS)。
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